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Radware新款应用性能监控解决方案上市
   来源:www.cps.com.cn    点击数:   发布时间:2007年12月07日   

    12月5日,全球领先的智能网络集成应用解决方案提供商Radware (NASDAQ: RDWR),于Gartner第26届年度数据中心会议上隆重推出新型应用性能监控解决方案——APM。该款解决方案通过精确定位性能恶化问题来大幅提高IT工作效率、降低企业的资本和运营成本,为客户提供了完全集成的解决方案以保证服务水平协议(SLA),并有效解决性能问题。利用与APM相配套的Radware应用与安全产品可使客户较大程度的提高IT工作效率,同时降低资本和运营费用。

    由于当前基于Web架构的关键业务应用日益增多、分布式应用环境也愈发复杂,寻找可能导致违背SLA承诺的性能问题、WAN延迟和运营商性能问题的根源变得更加困难,令企业更感到棘手的是:标准网络或系统管理工具无法提供发现应用性能故障所需的一定颗粒度的分析。而APM通过支持对实时用户流量和端到端性能在应用层上的主动监控和测量,来对整个分析过程进行改进。这样可以更方便地发现应用提供路径上的特定瓶颈,其范围可以涵盖多种网元、服务器、应用和数据库。APM为系统管理员提供了多种测量路径上流量的详细参数,这些参数包括应用和网络环回响应时间、全功能SSL握手计数器、总带宽消耗、不完整的握手响应计数器和其他更为详细的参数等,跟踪这些参数对于设置核实的SLA门限和告警非常重要。

  在成本控制方面,Radware的APM集成解决方案降低了通常与设置、管理和应用性能有关的资本和运营成本。该集成解决方案无需部署探针或软件代理,从而大大减少IT网络和应用小组试图隔离降质根源所花的时间。APM测量实际的用户流量,而不必产生模拟事务。对实际流量进行测量可以消除不必要的应用服务器开销,同时提高分析的准确性。

  Radware资深技术顾问指出:“APM的关键优势集中于以下几点—基于实时流量提供对业务关键应用性能的可见性;SLA门限不满足时主动触发告警;提供从应用提供路径上单个或多个网络点收集的一系列性能度量;使用内置的4-7层交换与流量整形功能将性能监控;诊断与修复并入同一管理解决方案;无需额外部署昂贵的探针工具或软件代理,从而减小对运营影响、缩短故障排除时间、隔离存在性能问题的位置;方便地识别问题根源,从而改进网络团队与应用团队之间的协作、确保生产环境中的性能水平。”

  Radware产品管理副总裁Teddy Pardo表示:“为了对应用性能进行监控并隔离故障点,现有的监控解决方案均需要部署应用或软件探针。通过部署Radware APM,我们的客户将享受到易于部署的监控和诊断解决方案,更高效利用现有的Radware应用提供基础设施。我们的客户需要能够有效部署应用、准确定位性能问题、优化资源分配并保持达成一致的SLA。”Teddy Pardo还指出:“APM最初将在DefensePro v4.0上发布,需要具有APM许可证的Insite ManagePro v2.70预计在2008年第一季度发布。此外,2008年期间,所有其他Radware产品上都将可以使用APM。支持的应用包括带有集成应用管理模块的Oracle、HTTP 与HTTPS、SMTP、POP3和IMAP4以及任何用户定义的基于TCP的应用。”


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